周子美
【姓名】 周子美
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 外吸除,氧化层错,软损伤,多晶硅,增强吸杂,氧沉淀,S坑缺陷,氧化诱生层错,内吸杂,内吸除,多晶硅吸杂,机械损伤,洁净层,吸杂,吸除,诱生,HREM,产生寿命,加工技术,应变层,硅层,晶粒间界,多晶,...
【工作单位】 上海硅材料厂
【曾工作单位】 上海硅材料厂;
【所在地域】 上海
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[1]闵靖,邹子英,李积和,周子美,陈青松,陈一.外吸除用硅片背面加工技术的研究[J]稀有金属.2001,(05)
[2]闵靖,邹子英,李积和,陈青松,周子美,陈一.淀积在硅片上起杂质吸除用的多晶硅的研究[J]功能材料与器件学报.2001,(04)
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