廉进卫
【姓名】 廉进卫
【职称】
【研究领域】 无机化工;有机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 化学机械抛光(CMP),硅片抛光,抛光液,SiO2胶体,氧化剂,抛光浆料,超大规模集成电路,研究进展,全局平面化,抛光速率,大尺寸,抛光片,磨料,碱金属离子,碱性抛光,浆液,表面损伤,平整度,技术,电...
【工作单位】 山西新华化工厂
【曾工作单位】 山西新华化工厂;
【所在地域】 上海
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[1]廉进卫;张大全;高立新;.化学机械抛光液的研究进展[J]化学世界.2006,(09)
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