T.Oiand
【姓名】 T.Oiand
【职称】
【研究领域】 物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 ZnWO_4,晶体,电场,单晶,有效分凝系数,籽晶,提拉法生长,分凝系数,铁杂质,电流密度,生长界面,荧光强度,杂质浓度,晶体颜色,晶体生长,脉冲电场,晶体生长过程,离子的迁移,高纯度,熔体,
【工作单位】 日本日立中央研究所
【曾工作单位】 日本日立中央研究所;
【所在地域】
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[1]K.Takagi,T.Oiand,T.Fukazawa,宋桂莲.高纯ZnWO_4晶体的生长[J]压电与声光.1982,(03)
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