Akira
【姓名】 Akira
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 抗蚀剂,杂技,扩散表面,无机,二极管,二氧化硅,n型,掺入,p型,硫族化物,第三组分,杂质,结深,图形,杂质扩散,质谱,扩散源,SIMS分析,SIMS,扩散晶体管,
【工作单位】 日本电电公社电通研究所
【曾工作单位】 日本电电公社电通研究所;
【所在地域】
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[1]Akira Yoshikawa,Osamu Ochi,刘志存.一种不需形成二氧化硅图形而采用无机抗蚀剂的新型掺杂技术[J]微电子学.1982,(06)
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