申宇爽
【姓名】 申宇爽
【职称】
【研究领域】 自动化技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氢传感器,电效应,热电势,晶化,薄膜材料,敏感性能,工作温度,RF溅射法,Pt薄膜,氢氧化,玻璃衬底,金属Ni,热反应,XRD衍射,敏度,衬底材料,烧结温度,端形,温度梯度,温度差,
【工作单位】 日本产业技术综合研究所
【曾工作单位】 日本产业技术综合研究所;
【所在地域】 日本
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[1]全宇军,邱法斌,申宇爽,村山宣光.Ni诱导SiGe薄膜晶化烧结制备与热电势氢传感器件[J]仪表技术与传感器.2004,(11)
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