秦高梧
【姓名】 秦高梧
【职称】 研究员;
【研究领域】 计算机硬件技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 磁记录介质,Co-Mo,超高密度,力学基础,相分离,磁晶,各向异性能,CoMo,磁记录,水平记录,改善的途径,求介,合金薄膜,磁记录技术,相分离程度,铁磁相,相组,理论极限,合金,两个体系,
【工作单位】 日本产业技术综合研究所
【曾工作单位】 日本产业技术综合研究所;
【所在地域】 日本
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[1]秦高梧,及川胜成.超高密度磁记录介质研究的热力学基础[J]材料与冶金学报.2005,(02)
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