庞春霖
【姓名】 庞春霖
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅薄膜,薄膜晶体管,化学气相淀积法,催化分解,迁移率,制备,应用进展,淀积速率,衬底温度,原料气体,有源层,电学特性,器件,利用效率,催化材料,反应条件,激光晶化,气相反应,等离子体,成膜技术,
【工作单位】 清溢精密光电(深圳)有限公司
【曾工作单位】 清溢精密光电(深圳)有限公司;
【所在地域】 广东深圳
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[1]刘少林;邹兆一;庞春霖;付国柱;邱法斌;.Cat-CVD法制备硅薄膜及在TFT中的应用进展[J]液晶与显示.2006,(05)
[2]张俊;李青;韦静;傅伟涛;庞春霖;.反射型胆甾相液晶显示器件多畴结构的形成及相变的研究[J]光电子技术.2005,(04)
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