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王秋花
【姓名】
王秋花
【职称】
【研究领域】
物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
膜厚,P蚀刻法,SiO2膜,玻璃基片,SiO_2膜,膜层厚度,蚀刻剂,蚀刻法,层厚度,蚀刻速度,秦皇,镀膜玻璃,蚀刻速率,椭偏仪测量,射频溅射,钠钙玻璃,表面轮廓仪,样片,台阶,镀膜,
【工作单位】
秦皇岛莱成电子有限公司
【曾工作单位】
秦皇岛莱成电子有限公司;
【所在地域】
河北秦皇岛
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[1]汤安东,王秋花,郑月景,刘瑞川.
玻璃基片上SiO_2膜层厚度的测量方法
[J]光学技术.1999,(06)
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