唐雪林
【姓名】 唐雪林
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 RCA工艺,清洗技术,抛光硅片,金属沾污,抛光片,表面颗粒,清洗工艺,RCA清洗,颗粒,硅表面,SIMS,TXRF,微粗糙度,改进工艺,宁波,氧化层,不同工艺,颗粒检测,表面活性剂,酸性溶液,
【工作单位】 宁波海纳半导体有限公司
【曾工作单位】 宁波海纳半导体有限公司;
【所在地域】 浙江宁波
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[1]何良恩,凤坤,唐雪林,李刚.对抛光片清洗技术的研究[J]半导体技术.2004,(07)
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