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汤学红
【姓名】
汤学红
【职称】
【研究领域】
电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】
硬铬,多层镍,现状,发展,微裂纹,镀铬工艺,高硫镍,电镀工,经济意义,光亮镍,位差,亮镍,装饰铬,电镀技术,硬格,镍铬,多层镍体系,阴极电流效率,铬层,三层镍,电流密度,电位性能,摩托车前叉,表面技术...
【工作单位】
南京晶晶表面技术公司
【曾工作单位】
南京晶晶表面技术公司;
【所在地域】
江苏南京
学术成果产出统计表
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到2篇
[1]张升达,汤学红,王如星.
硬铬电镀技术的发展与现状
[J]表面技术.2000,(06)
[2]汤学红,张升达,王如星.
多层镍微裂纹硬铬电镀工艺
[J]材料保护.1998,(12)
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中国重要会议全文数据库
共找到1篇
[1]张升达;汤学红;王如星;.
硬铬电镀技术的发展与现状
[A].2001年全国电子电镀年会论文集.2001-05-01
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2
张升达
南京晶晶表面技术公司
2
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(学者,学者单位,篇数)
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2
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2
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