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刘立峰
【姓名】
刘立峰
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
非晶硅,异质结,单晶硅,电学特性,二维电子气,异质界面,HEMT,T模,异质结构,数量级,发射极,反向电流,导带差,南京,霍耳测量,正向伏安特性,光学禁带宽度,高掺杂浓度,有效掺杂,理想因子,
【工作单位】
南京电子器件研究所
【曾工作单位】
南京电子器件研究所;
【所在地域】
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[1]张明,刘立峰,盛文伟,刘良俊,朱恩均.
非晶硅/单晶硅n~+p异质结的制备及其电学特性的研究
[J]固体电子学研究与进展.1987,(03)
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