濮胜
【姓名】 濮胜
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 低k介电层,铜布线工艺制程,RC延迟,双嵌入,内导线,铜工艺,嵌入式,介电层,制程,电阻率,低介,电常数,黑钻石,低介电常数材料,氧化硅,连线,介电常数,电迁移,化学汽,应用材料,
【工作单位】 美国应用材料中国有限公司
【曾工作单位】 美国应用材料中国有限公司;
【所在地域】 上海
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[1]利定东,濮胜.双嵌入式低k介电层/铜工艺技术[J]半导体技术.2003,(03)
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