黄英
【姓名】 黄英
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 绝缘栅,氮处理技术,栅氧化,应用材料,处理技术,氮化处理,栅漏电流,氮掺杂,中国公司,介电常数,沟道,小特征尺寸,腔体,氮分布,氮浓度,射频源,HRTEM,物理,等离子体,隧道电流,
【工作单位】 美国应用材料中国有限公司
【曾工作单位】 美国应用材料中国有限公司;
【所在地域】 上海
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[1]黄英,许志,KIM Sung Lak,ZHAO Richard,利定东.DPN MOS绝缘栅氮处理技术[J]半导体技术.2004,(05)
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