司田华
【姓名】 司田华
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 抛光液,硅片,ULSI,化学机械抛光,抛光速率,精抛,化学机械,抛光,抛光技术,抛光垫,抛光雾,硅衬底,抛光片,损伤层,氧化层错,抛光质量,去除速率,光过程,抛光料,抛光表面,
【工作单位】 洛阳单晶硅有限责任公司
【曾工作单位】 洛阳单晶硅有限责任公司;
【所在地域】 河南洛阳
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[1]狄卫国,刘玉岭,司田华.ULSI硅衬底的化学机械抛光技术[J]半导体技术.2002,(07)
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