胡新源
【姓名】 胡新源
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 铬版,磁控,光密度,铬膜,溅射,充氩,溅射沉积,Ar气,充氮气,掩膜,柱晶,沉积速率,性能的影响,XPS光谱,工作气体,氮化铬,玻璃基板,光刻版,动量,金属铬,
【工作单位】 江苏省苏州美精微光电有限公司
【曾工作单位】 江苏省苏州美精微光电有限公司;
【所在地域】 江苏苏州
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[1]陈长琦,王凤丹,王君,王旭迪,干蜀毅,胡新源.N_2、Ar气体对磁控溅射沉积掩膜铬膜性能的影响[J]真空.2004,(05)
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