曾广
【姓名】 曾广
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 均匀性,新方法,基区,干氧氧化,杂质浓度,硅抛光片,湿氧氧化,工艺方法,再分布,硼扩散,杂质原子,一次命中率,EB结,电流放大,电流放大倍数,杂质,表面复合,合格率,晶体三极管,漏电流,
【工作单位】 湖南省衡阳晶体管厂
【曾工作单位】 湖南省衡阳晶体管厂;
【所在地域】
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[1]曾广.提高R(?)b均匀性的新方法[J]半导体技术.1988,(06)
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