魏雪峰
【姓名】 魏雪峰
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光子热丝,金刚石膜,生长速率,英文,光电技术,超硬材料,热丝,国家重点实验室,method,黑龙江,氢基团,CVD系统,吉林大学,黑龙江省,HFCVD,体分解,SOLO,拉伸振动,decades,甲烷...
【工作单位】 黑龙江省光电技术研究所
【曾工作单位】 黑龙江省光电技术研究所;
【所在地域】 黑龙江
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[1]杨贵龙,魏雪峰.脉冲负偏压对热丝CVD金刚石膜形核及生长形貌的影响[J]信息技术.2000,(09)
[2]彭鸿雁,申家镜,杨贵龙,邵春雷,魏雪峰,杨广亮,金曾孙.光子热丝法沉积金刚石膜(英文)[J]功能材料与器件学报.2001,(03)
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