J·Verhoeven
【姓名】 J·Verhoeven
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 多层膜,软X射线光学,X射线光学,X射线,软X射线,反射率,粗糙度,电子束蒸发法,离子束,界面粗糙度,沉积过程,离子束轰击,原位测定,总反射率,溅射,H离子束,交替沉积,反射率曲线,离子源,原子,
【工作单位】 荷兰FOM原子分子物理研究所
【曾工作单位】 荷兰FOM原子分子物理研究所;
【所在地域】
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[1]薛钰芝,林纪宁,J·Verhoeven.X射线光学多层膜的研究[J]真空科学与技术.1994,(02)
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