赖国燕
【姓名】 赖国燕
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;航空航天科学与工程;力学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 磁增强,短管道,流导计算,反应离子刻蚀,发射光谱诊断,圆截面,流导,发射光谱,压强,诊断技术,分层流,系统中,长管道,动模型,射频功率,分子性,刻蚀过程,单色仪,范围内,过渡态,压强差,真空科学,发射...
【工作单位】 广东省深圳市新开达电子有限公司
【曾工作单位】 广东省深圳市新开达电子有限公司;
【所在地域】 深圳
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中国期刊全文数据库    共找到2篇
[1]赖国燕,范平.磁增强反应离子刻蚀系统中的发射光谱诊断技术[J]真空科学与技术.1996,(05)
[2]范平,赖国燕.全压强范围内圆截面短管道的流导计算[J]真空科学与技术.1996,(05)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]赖国燕;.一种新型的干法刻蚀技术——磁增强反应离子刻蚀[A].中国电子学会真空电子学分会第十届年会论文集（下册）.1995-11-13
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