方亮
【姓名】 方亮
【职称】
【研究领域】 计算机硬件技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 CMP机,盘基,化学机械抛光,纳米级,抛光,粗糙度,抛光液,计算机硬盘,氧化剂,抛光技术,后表面,盘片,polis,粒子,粒径,磨粒,波纹度,材料去除量,氧化剂浓度,抛光性能,
【工作单位】 广东省深圳市开发磁记录有限公司
【曾工作单位】 广东省深圳市开发磁记录有限公司;
【所在地域】 深圳
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[1]雷红,雒建斌,屠锡富,方亮.计算机硬盘基片的亚纳米级抛光技术研究[J]机械工程学报.2005,(03)
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[1]雷红;雒建斌;潘国顺;屠锡富;方亮;司马能;.化学机械抛光(CMP)技术在存储器硬盘抛光中的应用[A].第七届全国摩擦学大会论文集（二）.2002-08-01
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