王锋
【姓名】 王锋
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 击穿机理,介质膜,Ⅰ－Ⅴ特性,微观组分,SiOxNy薄介质膜,等离子体增强化学汽相淀积,PECVD法,电学性能,俄歇,SiO_x,电子能谱,傅里叶,红外吸收光谱,俄歇电子能谱,MIS结构,低温形成,击...
【工作单位】 广东省电子技术学校
【曾工作单位】 广东省电子技术学校;
【所在地域】 广东广州
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[1]陈蒲生,陈闽捷,张昊,刘小阳,王锋.低温PECVD法形成纳米级介质膜微观结构研究[J]固体电子学研究与进展.2004,(03)
[2]陈蒲生,张昊,冯文修,刘剑,刘小阳,王锋.PECVD法低温形成SiO_xN_y介质膜的俄歇电子能谱和红外吸收光谱分析[J]半导体技术.2002,(07)
[3]陈蒲生,王锋,冯文修,王川,章晓文.PECVD法制备SiO_xN_y膜Ⅰ—Ⅴ特性和击穿机理的测试分析[J]固体电子学研究与进展.1997,(04)
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