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朱炳春
【姓名】
朱炳春
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
二次缺陷,化学抛光,磨片,铝盘,粘片,腐蚀液,抛光,热氧化,完美晶体,新工艺,机械损伤,成品率,片厚度,层错,高温处理,化学抛光工艺,刀纹,铬离子,化学抛光液,位错,
【工作单位】
甘肃省国营第七四九厂
【曾工作单位】
甘肃省国营第七四九厂;
【所在地域】
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共找到1篇
[1]朱炳春.
化学抛光新工艺——以腐蚀代替磨片抑制二次缺陷
[J]半导体技术.1979,(06)
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