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E.Polig
【姓名】
E.Polig
【职称】
【研究领域】
核科学技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】
电化学蚀刻,径迹密度,径迹,固体核径迹,平均直径,聚碳酸酯膜,核径迹,注量,蚀坑,基本参数,碳酸,蚀刻坑,粒子,蚀刻时间,蚀刻剂,面源,密度,预蚀刻,蚀刻装置,径迹蚀刻,
【工作单位】
德国卡尔斯鲁厄核研究中心
【曾工作单位】
德国卡尔斯鲁厄核研究中心;
【所在地域】
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共找到1篇
[1]周永增,E.Polig.
核径迹电化学蚀刻过程中某些基本参数的研究
[J]辐射防护.1992,(06)
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