刘红艳
【姓名】 刘红艳
【职称】 工程师;
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 硅片清洗及检测
【发表文献关键词】 硅片清洗,硅片表面微观状态,硅片,H2O2,清洗液,金属沾污,清洗工艺,NH4OH,氧化膜,除硅,颗粒,氧化还原电位,微粗糙度,洗硅,新发,臭氧,氧化层,清洗溶液,粒子,负电性,
【工作单位】 北京有色金属研究总院有研半导体材料股份有限公司
【曾工作单位】 北京有色金属研究总院有研半导体材料股份有限公司;
【所在地域】 北京
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/4 4 3 1 79 2574
中国期刊全文数据库    共找到4篇
[1]黄栋栋;曲翔;刘大力;周旗钢;刘斌;刘红艳;.多晶硅沉积厚度对氧沉淀和洁净区形成的影响[J]稀有金属.2016,(12)
[2]李耀东;库黎明;刘斌;王新;郑琪;刘红艳;.大尺寸硅片边缘抛光技术[J]半导体技术.2016,(11)
[3]闫志瑞;李俊峰;刘红艳;张静;李莉;.HF／O_3在300mm硅片清洗中的应用[J]半导体技术.2006,(02)
[4]刘红艳,万关良,闫志瑞.硅片清洗及最新发展[J]中国稀土学报.2003,(S1)
更多