尤重远
【姓名】 尤重远
【职称】
【研究领域】 机械工业;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 损伤层,雾缺陷,背损伤,吸除,表面损伤,磨片,位错,化学机械,红外显微镜,吸杂,表面损伤层,片状缺陷,双晶,最大深度,半峰宽,金相显微镜,衍射法,摇摆曲线,Ｘ射线,刚玉粉,表面剥离,透射电镜,金相显微...
【工作单位】 北京有色金属研究总院
【曾工作单位】 北京有色金属研究总院;
【所在地域】
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[1]刘峥，翟富义，张椿，尤重远.硅片背损伤对雾缺陷吸除的影响的研究[J]稀有金属.1996,(01)
[2]刘峥,翟富义,张椿,尤重远.P〈111〉硅磨片表面损伤的研究[J]稀有金属.1997,(02)
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