田岗忠美
【姓名】 田岗忠美
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氧化膜,单晶硅,干氧氧化,层错,形态研究,等温氧化,枝状,方石英,界面区,空气自然对流,形貌,氧化硅,位型,氧化时间,氧化动力学,点缺陷,硅基体,位错,金属研究,雪花,
【工作单位】 北京有色金属研究总院
【曾工作单位】 北京有色金属研究总院;
【所在地域】 北京日本
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[1]孙贵如,田岗忠美,李文超,樊自栓.干氧氧化单晶硅氧化膜形态研究[J]稀有金属.1989,(01)
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