方锋
【姓名】 方锋
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 控氧技术,Φ200mm硅单晶,氧径向均匀性,硅单晶,氧含量,系统操作参数表,Φ125mm硅单晶,热场,300mm硅单晶,坩埚,无位错,300mm,磁场,石英坩埚转速,缩颈,熔体,热屏,晶转速度,拉晶,...
【工作单位】 北京有色金属研究总院
【曾工作单位】 北京有色金属研究总院;
【所在地域】 北京
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[1]张果虎,吴志强,方锋,秦福,常青,周旗钢,屠海令.300mm硅单晶的生长技术[J]半导体学报.2001,(03)
[2]程景柏,屠海令,周旗钢,王敬,常青,张果虎,方锋.300mm硅单晶的缩颈生长及应力分析[J]稀有金属.2001,(04)
[3]张果虎,常青,方锋,吴志强,郝玉清,秦福.Φ125mm硅单晶的控氧技术[J]稀有金属.1997,(05)
[4]张果虎,常青,方锋,吴志强,周旗钢.Φ200mm硅单晶的生长工艺特点[J]稀有金属.1998,(01)
[5]郝玉清,张果虎,常青,方锋,吴志强,万关良,秦福.Φ125mm直拉硅单晶氧径向均匀性研究[J]稀有金属.1998,(06)
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