安生
【姓名】 安生
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;自动化技术;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 低压等离子喷涂,帧积累,透射电镜,界面断裂,电荷耦合器件,数字图像,图像处理,元素扩散,非晶相,微结构,界面微结构,结合强度,喷涂,界面结构,金属研究,涂层,接收处理,结合性能,Ni/Fe,金属基,信...
【工作单位】 北京有色金属研究总院
【曾工作单位】 北京有色金属研究总院;
【所在地域】 北京
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[1]李东飞,邵贝羚,刘安生,安生,朱其芳.金属基低压等离子喷涂界面的结合性能及微结构研究[J]稀有金属.2001,(04)
[2]李东飞,邵贝羚,刘安生,安生,朱其芳.Ni/Fe低压等离子喷涂界面微结构及界面断裂的研究[J]电子显微学报.2002,(04)
[3]刘安生,邵贝羚,安生,刘峥,王敬,王瑞忠,钱佩信.层叠结构的Si_(0.65)Ge_(0.35)/Si红外探测器的微结构研究[J]电子学报.1999,(11)
[4]陈朝庆,邵贝羚,孙继光,刘安生,安生.透射电镜CCD数字图像接收处理系统[J]现代仪器.1999,(05)
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