洪啸吟
【姓名】 洪啸吟
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 无显影气相光刻,胶膜,掩膜,涂布,紫外光,肉桂酸酯,光刻胶,表面氧化,图形,腐蚀气氛,聚乙烯醇,肉桂酸,腐蚀速度,胶膜厚度,聚合物结构,光刻技术,气压,物理化学性质,酸溶液,显影剂,
【工作单位】 北京市化工研究所
【曾工作单位】 北京市化工研究所;
【所在地域】
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[1]裴荣祥,洪啸吟,金维新,周琦,符卫平.无显影气相光刻的研究[J]科学通报.1980,(10)
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