李伟
【姓名】 李伟
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 低介电常数绝缘介质,等离子体增强化学气相淀积,动态功耗,互连延迟,傅里叶变换红外光谱,含氟氧,介电常数,深亚微米,硅薄膜,低介,电常数,低k介质,伸缩振动,FTIR光谱,功耗,直通短路,CMOS芯片,...
【工作单位】 (台湾)集成电路制造公司
【曾工作单位】 (台湾)集成电路制造公司;
【所在地域】 新竹
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[1]王鹏飞,张卫,王季陶,李伟.用作超大规模集成电路低k材料的有机薄膜[J]微电子技术.2000,(01)
[2]王鹏飞,丁士进,张卫,张剑云,王季陶,李伟.低介电常数含氟氧化硅薄膜的红外光谱分析[J]固体电子学研究与进展.2001,(04)
[3]王鹏飞,丁士进,张卫,王季陶,李伟.低k介质对CMOS芯片动态功耗的影响[J]自然科学进展.2001,(03)
[4]王鹏飞,丁士进,张卫,王季陶,李伟.ULSI低介电常数材料制备中的CVD技术[J]微细加工技术.2001,(01)
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