刘卫丽
【姓名】 刘卫丽
【职称】 教授;
【研究领域】 无线电电子学;无机化工;材料科学;
【研究方向】 纳米电子材料与器件
【发表文献关键词】 多孔硅外延转移,氮化硅薄膜和二氧化硅薄膜,SOIM新结构,吸杂,纳米孔,Cu杂质,SOI,SOIM,SOI结构,绝缘层上的硅(SOI),SOI产业化,辐射,氮化硅薄膜,SIMOX,顶层硅,硫系化合物随...
【工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;
【所在地域】 上海
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中国期刊全文数据库    共找到37篇
[1]宋晗;王良咏;刘卫丽;宋志棠;.Effect of Cations on the Chemical Mechanical Polishing of SiO_2 Film[J]Chinese Physics Letters.2013,(09)
[2]闫未霞;张泽芳;郭晓慧;刘卫丽;宋志棠;.Effect of Abrasive Concentration on Chemical Mechanical Polishing of Sapphire[J]Chinese Physics Letters.2015,(08)
[3]魏震;汪为磊;刘卫丽;罗宏杰;宋志棠;.羟乙基纤维素对氧化铝基蓝宝石抛光液的影响[J]武汉理工大学学报.2019,(02)
[4]冯道欢;王若冰;徐傲雪;徐帆;汪为磊;刘卫丽;宋志棠;.Mechanism of titanium–nitride chemical mechanical polishing[J]Chinese Physics B.2021,(02)
[5]魏震;汪为磊;刘卫丽;罗宏杰;宋志棠;.硅溶胶的有机改性及应用[J]应用化工.2020,(03)
[6]孔慧;WANG Dan;刘卫丽;SONG Zhitang;.Preparation of Non-spherical Colloidal Silica Nanoparticle and Its Application on Chemical Mechanical Polishing of Sapphire[J]Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science).2019,(01)
[7]孔慧;刘卫丽;宋志棠;.一种非球形纳米二氧化硅颗粒制备新方法[J]材料导报.2018,(10)
[8]王光灵;刘卫丽;刘宇翔;孔慧;霍军朝;宋志棠;.化学机械抛光工艺参数对氧化锆陶瓷抛光速率的影响[J]表面技术.2018,(09)
[9]王丹;汪为磊;秦飞;刘卫丽;施利毅;宋志棠;.钴掺杂硅溶胶的制备及其在A向蓝宝石抛光中的应用（英文）[J]表面技术.2017,(08)
[10]汪为磊;刘卫丽;白林森;宋志棠;霍军朝;.氧化铝颗粒的表面改性及其在C平面(0001)蓝宝石衬底上的化学机械抛光(CMP)性质(英)[J]无机材料学报.2017,(10)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]王石冶;刘卫丽;张苗;林成鲁;宋志棠;.SOI在高压器件中的应用[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅲ.2004-09-01
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承担国家科研项目    共找到3个
[1]刘卫丽;.绝缘层上锗新材料的研究[A].中国科学院上海微系统与信息技术研究所;.项目经费 7万元.2007-03-31.资助文献数 0 篇
[2]刘卫丽;.类金刚石薄膜为绝缘埋层的SOI新材料研究[A].中国科学院上海微系统与信息技术研究所;.项目经费 22万元.2005-03-31.资助文献数 0 篇
[3]刘卫丽;.纳米硅的超高真空电子束制备及其应用探索[A].中国科学院上海微系统与信息技术研究所;.项目经费 22万元.2002-03-31.资助文献数 0 篇
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