蒋志
【姓名】 蒋志
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】 高密度光存储材料的研究
【发表文献关键词】 光存储系统,氧化物薄膜,存储材料,记录机理,记录介质,记录材料,薄膜光学性质,数据传输率,稳定性,记录密度,记录层,反射率,存储特性,记录点,透射率,发展趋势,有机染料,存储密度,载噪比,对比度,
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】 上海
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[1]蒋志;.热处理对BiO_x薄膜的组成和结构的影响[J]信息记录材料.2009,(05)
[2]蒋志;耿永友;顾冬红;周莹;翟凤潇;.氧化物记录介质在光存储中的应用及其研究进展[J]激光与光电子学进展.2007,(08)
[3]蒋志;耿永友;顾冬红;.Write-once medium with BiO_x thin films for blue laser recording[J]Chinese Optics Letters.2008,(04)
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