付申成
【姓名】 付申成
【职称】 副教授;
【研究领域】 物理学;无线电电子学;工业通用技术及设备;
【研究方向】 光存储材料与器件、光电成像材料与器件研究
【发表文献关键词】 大学物理教学,教学方法,教学条件,教师素质,学习观念,微通道板,离子壁垒膜,核阻止本领,电子阻止本领,蒙特卡罗模拟,阻止作用,离子能量,膜层材料,能量损失,正离子,薄膜,阻止能力,垂直入射,平均射程,...
【工作单位】 长春理工大学
【曾工作单位】 长春理工大学;
【所在地域】 吉林长春
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[1]宁晓丹;付申成;郑美玲;谢鑫;.含螺噁嗪光致变色薄膜的全光开关特性[J]光子学报.2016,(06)
[2]郑美玲;谢鑫;苏玲俐;李本天;付申成;石峰;王秀莉;.双光子辐照下的螺吡喃聚合物薄膜偏振全息光栅记录研究[J]光子学报.2015,(02)
[3]付申成;李野;端木庆铎;桑文玲;孙擘;.防离子反馈膜粒子阻透率随环境温度变化的模拟研究[J]红外与激光工程.2014,(01)
[4]张志颖;付申成;苟立丹;姚治海;.三能级闭合环路系统控制的位相和幅度相关的无反转增益[J]物理学报.2013,(10)
[5]付申成;秦旭磊;姜德龙;李野;端木庆铎;.螺噁嗪掺杂的聚合物薄膜偏振全息记录研究[J]长春理工大学学报(自然科学版).2011,(04)
[6]王新;向嵘;李野;王国政;付申成;端木庆铎;姜德龙;吴奎;.膜层厚度对蓝宝石衬底上生长的ITO薄膜性质的影响[J]发光学报.2009,(05)
[7]王国政;陈立;秦旭磊;王蓟;王洋;付申成;端木庆铎;.Influence of etching current density on the morphology of macroporous silicon arrays by photo-electrochemical etching[J]半导体学报.2010,(07)
[8]王国政;熊峥;王蓟;秦旭磊;付申成;王洋;端木庆铎;.硅微通道阵列光电化学腐蚀中通道尺寸控制技术[J]长春理工大学学报(自然科学版).2010,(03)
[9]王国政;付申成;陈立;王蓟;秦旭磊;王洋;郑仲馗;端木庆铎;.Influence of voltage on photo-electrochemical etching of n-type macroporous silicon arrays[J]半导体学报.2010,(11)
[10]李野;高延军;王国政;付申成;吴奎;姜德龙;端木庆铎;田景全;.新一代二维通道电子倍增器的薄膜连续打拿极[J]发光学报.2006,(03)
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中国博士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]付申成.键裂解型有机全息存储介质的光电特性研究[D].长春理工大学.2010
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