刘志远
【姓名】 刘志远
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 热阴极离子镀,XRD,显微硬度计,沉积速率,CrNx薄膜,CrNx,工艺参数,基体偏压,结构分析,硬质薄膜,工艺制备,工艺条件,弧电流,正交设计法,制备,面心立方结构,极差分析,分析讨论,正交结构,涂...
【工作单位】 西华大学
【曾工作单位】 西华大学;
【所在地域】 四川成都
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中国期刊全文数据库    共找到3篇
[1]于玉城;赵广彬;栾道成;晋勇;刘志远;.特种硬质薄膜的制备[J]西华大学学报(自然科学版).2007,(01)
[2]于玉城;赵广彬;晋勇;刘志远;.CrN_x薄膜的制备及结构分析[J]真空.2007,(01)
[3]刘志远;赵广彬;陈甥怡;曹晓英;栾道成;.硬质合金表面硬质薄膜的制备和性能分析[J]西华大学学报(自然科学版).2008,(02)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]刘志远.磁控溅射制备TiAlN薄膜及性能分析[D].西华大学.2008
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