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李荣强
【姓名】
李荣强
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;电力工业;
【研究方向】
模拟集成电路工艺研究
【发表文献关键词】
BiCMOS工艺,互补双极工艺,D/A转换器,数字/模拟,介质隔离,深槽,模拟集成电路,混合电路,模拟IC,锗硅低噪声放大器,S参数,测试基座,测试系统,分子束外延,差分外延,锗硅异质结双极晶体管,低...
【工作单位】
中国电子科技集团第二十四研究所
【曾工作单位】
中国电子科技集团第二十四研究所;
【所在地域】
重庆
学术成果产出统计表
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/文献篇数
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学术成果产出明细表
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共找到10篇
[1]杨鑫;谭开洲;黄绍春;李荣强;.
一种光电探测器与信号处理器的单片集成器件
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[2]唐昭焕;甘明富;钟怡;谭开洲;刘勇;杨永晖;胡刚毅;徐学良;李荣强;.
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双层铝互连倒梯形通孔刻蚀技术研究
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[4]吴国增;李荣强;赵安邦;.
射频前端低噪声放大器设计研究
[J]重庆邮电学院学报(自然科学版).2006,(S1)
[5]张静;李荣强;刘伦才;李开成;刘道广;徐婉静;杨永晖;蒲林;谭开洲;.
一种基于MBE差分外延技术的SiGe低噪声放大器
[J]微电子学.2006,(05)
[6]蒲林;刘伦才;李荣强;刘道广;张静;谭开洲;.
一种SiGe低噪声放大器测试基座的研究
[J]微电子学.2006,(05)
[7]许云;廖良;李荣强;.
一种高精度低压差电压调整器
[J]微电子学.2006,(06)
[8]何开全,谭开洲,李荣强.
高性能模拟集成电路工艺技术
[J]微电子学.2004,(04)
[9]李荣强,石建刚,何开全.
一种16位高速D/A转换器的研究
[J]微电子学.2004,(06)
[10]刘道广,郝跃,徐世六,刘玉奎,何开全,刘嵘侃,张静,刘伦才,徐婉静,李荣强,陈光炳,徐学良,徐学良.
基于MBE的f_(max)为157GHz的SiGe HBT器件
[J]半导体学报.2005,(03)
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