刘善喜
【姓名】 刘善喜
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;自动化技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 全耗尽,互补型金属氧化物半导体,绝缘体上的硅,高温特性,单管,集成电路,激光测距,测距电路,LDD结构,薄膜全耗尽,低功耗,硅化物,绝缘硅,SOI结构,集成技术,CMOS,激光,工艺,电路功耗,工作,...
【工作单位】 安徽省蚌埠华东光电集成器件研究所
【曾工作单位】 安徽省蚌埠华东光电集成器件研究所;
【所在地域】 安徽蚌埠
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[1]汪继芳;刘善喜;简崇玺;.双面PSD器件的工艺研究[J]电子工艺技术.2012,(02)
[2]汪继芳;刘善喜;.RF MEMS开关工艺技术研究[J]电子与封装.2010,(03)
[3]汪继芳;刘善喜;.LTCC基板上薄膜多层布线工艺技术[J]电子与封装.2010,(04)
[4]高勇;张新;刘梦新;安涛;刘善喜;马立国;.一种高温工作的激光测距SOICMOS集成电路(英文)[J]半导体学报.2007,(02)
[5]张新,高勇,刘善喜,安涛,徐春叶.用全耗尽绝缘硅互补型金属氧化物半导体集成技术实现一种激光测距电路[J]兵工学报.2005,(02)
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