孙文秀
【姓名】 孙文秀
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 CZSi,空洞型微缺陷,FPDs,快速热处理,直拉硅单晶,硅片,掺杂剂,缺陷密度,大直径,空位密度,退火,气氛,杂质原子,超大规模集成电路,种类,掺杂原子,空洞型缺陷,电阻率,掺入,半径,
【工作单位】 河北工业大学
【曾工作单位】 河北工业大学;
【所在地域】 天津
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[1]孙文秀;阎殿然;陈学广;董艳春;李香芝;.液Zn对Fe_2Al_5涂层侵蚀的相变过程研究[J]物理学报.2010,(04)
[2]孙文秀;阎殿然;陈学广;董艳春;张然;.液态锌对固态金属腐蚀相变的研究[J]有色金属(冶炼部分).2010,(03)
[3]郝秋艳;孙文秀;刘彩池;张建强;姚素英;.掺杂剂种类对大直径直拉硅单晶中void微缺陷的影响[J]南开大学学报(自然科学版).2006,(06)
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