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蒋中伟
【姓名】
蒋中伟
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;物理学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
分子束外延,生长中断,超晶格,掠入射X射线反射,中断时间,界面粗糙度,下界面,异质结,保护,样品,显微镜下,界面质量,界面生长,生长过程,均方根粗糙度,平整,测量,双晶衍射,反射系数,多层膜,
【工作单位】
中国科学院物理研究所
【曾工作单位】
中国科学院物理研究所;
【所在地域】
北京
学术成果产出统计表
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到9篇
[1]蒋中伟;王文新;高汉超;李辉;何涛;杨成良;陈弘;周均铭;.
GaSb/GaAs复合应力缓冲层上自组装InAs量子点的生长
[J]物理学报.2009,(01)
[2]吴殿仲;王文新;杨成良;蒋中伟;高汉超;田海涛;陈弘;姜宏伟;.
带有InGaAs覆盖层的InAs量子点红外探测器材料的发光与光电响应
[J]发光学报.2009,(02)
[3]高汉超;温才;王文新;蒋中伟;田海涛;何涛;李辉;陈弘;.
AlGaSb/GaSb quantum wells grown on an optimized AlSb nucleation layer
[J]半导体学报.2010,(05)
[4]李志华;王文新;刘林生;蒋中伟;高汉超;周均铭;.
As保护下的生长中断时间对AlSb/InAs超晶格界面粗糙度的影响
[J]物理学报.2007,(03)
[5]刘林生;刘肃;王文新;赵宏鸣;刘宝利;高汉超;蒋中伟;王佳;黄庆安;陈弘;周均铭;.
GaAs(110)量子阱的电子自旋弛豫
[J]半导体学报.2007,(06)
[6]刘林生;刘肃;王文新;赵宏鸣;刘宝利;蒋中伟;高汉超;王佳;陈弘;周均铭;.
半导体自旋电子学的研究与应用进展
[J]电子器件.2007,(03)
[7]刘林生;刘肃;王文新;赵宏鸣;刘宝利;蒋中伟;高汉超;王佳;黄庆安;陈弘;周均铭;.
GaAs(110)量子阱材料生长和光学特性
[J]光学精密工程.2007,(05)
[8]刘林生;刘肃;王文新;赵宏鸣;刘宝利;蒋中伟;高汉超;王佳;黄庆安;陈弘;周均铭;.
关于RHEED振荡技术优化GaAs(110)量子阱生长的研究
[J]物理学报.2007,(06)
[9]刘林生;王文新;刘肃;赵宏鸣;刘宝利;蒋中伟;高汉超;王佳;黄庆安;陈弘;周均铭;.
用分子束外延技术在GaAs(110)衬底上生长AlGaAs材料
[J]半导体学报.2007,(09)
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研究方向相近的学者
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高汉超
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(学者,学者单位,篇数)
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