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【姓名】	杨吟野
【职称】
【研究领域】	工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】	环境半导体材料,Ca2Si,晶格特性,光电性质,制备方法,正交相,环境友好,立方相,研究进展,能带结构,应用前景,两步法,硅化物,直接带隙,实验值,局域密度近似,半导体器件,光电子发射,薄膜,正交结构,
【工作单位】	贵州大学
【曾工作单位】	贵州大学;
【所在地域】	贵州贵阳

中国期刊全文数据库 共找到6篇

[1]李瑞杰;杨吟野;岑伟富;吕林;谢泉;.Al掺杂对Fe_2Si电子结构和磁学特性的影响[J]磁性材料及器件.2018,(02)

[2]杨吟野;谢泉;.射频溅射沉积不同厚度Ca膜退火直接形成Ca_2Si膜(英文)[J]材料科学与工程学报.2009,(05)

[3]杨吟野;谢泉;.单一相Ca_2Si膜选择性生长(英文)[J]黑龙江大学自然科学学报.2010,(04)

[4]肖清泉;谢泉;杨吟野;张晋敏;任雪勇;.环境友好半导体材料Ca_2Si的研究进展[J]山西科技.2007,(02)

[5]肖清泉;谢泉;杨吟野;余志强;赵珂杰;.环境半导体Ca_2Si薄膜制备及椭偏光谱研究[J]湖南工程学院学报(自然科学版).2008,(04)

[6]肖清泉;谢泉;杨吟野;张晋敏;赵凤娟;杨创华;.环境半导体材料Ca_2Si的电子结构研究[J]海南师范大学学报(自然科学版).2008,(02)

中国重要会议全文数据库 共找到3篇

[1]曾武贤;谢泉;梁艳;张晋敏;肖清泉;杨吟野;任学勇;.不同溅射气压对β-FeSi_2形成的影响[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（1）.2007-11-01

[2]梁艳;谢泉;曾武贤;张晋敏;杨吟野;肖清泉;任雪勇;.退火温度对磁控溅射制备的β-FeSi_2薄膜的影响[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（1）.2007-11-01

[3]任雪勇;谢泉;杨吟野;肖清泉;杨创华;曾武贤;梁艳;.溅射功率对Ca_2Si薄膜性质的影响[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（4）.2007-11-01

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