霍琼宗
【姓名】 霍琼宗
【职称】
【研究领域】 计算机硬件技术;有机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 表面粗糙度,带基,测量环境,质量控制,磁带,精密测量,电磁变换,测量结果,产品样本,轮廓仪,记录密度,触针式,粗糙度参数,性能,基薄膜,平均粗糙度,表面特征,薄膜表面,评定长度,录像带,
【工作单位】 杭州磁带厂
【曾工作单位】 杭州磁带厂;
【所在地域】 浙江杭州
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[1]霍琼宗;.用轮廓法测量带基表面粗糙度[J]磁记录材料.1990,(04)
[2]霍琼宗;王颖;.用S_(8p)仪测录像带和带基表面三维粗糙度[J]磁记录材料.1991,(03)
[3]周文志;霍琼宗;.废PET的挤出再生及应用[J]聚酯工业.1992,(04)
[4]周文志;霍琼宗;.非纤用PET树脂应用性能的评价[J]聚酯工业.1993,(04)
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