林明通
【姓名】 林明通
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】 无机EL发光层和绝缘层的研究与开发
【发表文献关键词】 无机非金属材料,射频磁控溅射法,BST薄膜,沉积速率,介电常数,无机电致发光,掺铕硫代铝酸钡薄膜,全彩色显示,研究进展,发光层,器件,电子束蒸发,钝化层,电致发光薄膜,制备,蓝光问题,高亮度,退火温度...
【工作单位】 上海广电电子股份有限公司
【曾工作单位】 上海广电电子股份有限公司;
【所在地域】 上海华东
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[1]陈涛;林明通;张羿;刘红君;周团团;楼均辉;陈晨曦;肖田;李荣玉;.电子束共蒸发Al_2O_3-La_2O_3和ZrO_2-Ta_2O_5复合薄膜的介电性能研究[J]现代显示.2009,(12)
[2]黄浩;肖田;张羿;林明通;.电子束蒸发Al_2O_3/TiO_2复合膜及在无机EL中的应用[J]液晶与显示.2006,(05)
[3]肖田;林明通;黄浩;陈国荣;.蓝色无机电致发光薄膜最新研究进展[J]光电子技术.2006,(04)
[4]范云华;肖田;林明通;陈国荣;杨云霞;.溅射工艺参数对BaAl_2S_4薄膜沉积速率、化学组成及电致发光特性的影响[J]化工新型材料.2008,(04)
[5]林明通,肖田,楼均辉,陈国荣,杨云霞.溅射工艺参数对BST薄膜介电常数的影响[J]电子元件与材料.2005,(07)
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