周小为
【姓名】 周小为
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;材料科学;
【研究方向】 衍射光学元件离子束刻蚀技术的研究
【发表文献关键词】 离子束刻蚀,射频离子源,选择比,衍射光学元件,光学材料,氧化铪,光刻胶光栅,离子能量,工作气体,三氟甲烷,加速电压,刻蚀速率,硅薄膜,特性研究,氧化硅,亚微米,刻蚀特性,衍射效率,束流,侧壁倾角,
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 安徽合肥
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[1]邱克强;周小为;刘颖;徐向东;刘正坤;盛斌;洪义麟;付绍军;.大尺寸衍射光学元件的扫描离子束刻蚀[J]光学精密工程.2012,(08)
[2]周小为;刘颖;徐向东;邱克强;刘正坤;洪义麟;付绍军;.大口径多层介质膜光栅衍射效率测量及其在制作工艺中的应用[J]物理学报.2012,(17)
[3]任煜轩;吴建光;周小为;付绍军;孙晴;王自强;李银妹;.相位片角向衍射产生拉盖尔-高斯光束的实验研究[J]物理学报.2010,(06)
[4]刘颖;徐德权;徐向东;周小为;洪义麟;付绍军;.几种常用光学材料的离子束刻蚀特性研究[J]中国科学技术大学学报.2007,(Z1)
[5]洪义麟;刘良保;周小为;徐向东;付绍军;.用于大尺寸衍射光栅的光刻胶残余物的灰化系统研制[J]真空.2008,(03)
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