胡凤霞
【姓名】 胡凤霞
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 X射线衍射,微结构,应变状态,物理性能,薄膜厚度,磁电阻,晶格参数,磁学性能,面内,晶格失配,衬底,技术研究,镶嵌结构,取向生长,掠入射衍射,拉应力,取向差,压应力,样品,倒易空间,
【工作单位】 香港大学
【曾工作单位】 香港大学;
【所在地域】 香港
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[1]张红娣;安玉凯;麦振洪;高炬;胡凤霞;王勇;贾全杰;.La_(0.8)Ca_(0.2)MnO_3/SrTiO_3薄膜厚度对其结构及磁学性能的影响[J]物理学报.2007,(09)
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