接文静
【姓名】 接文静
【职称】 教授;
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;电力工业;
【研究方向】 介电材料的研究
【发表文献关键词】 取向生长,缓冲层,钛酸钡,铁电薄膜,激光沉积,CCTO薄膜,PLD,RHEED,反射高能电子衍射,基片,沉积温度,硅基片,原子力显微镜,外延生长,扫描电子显微镜,脉冲激光沉积法,制备,电子衍射图,晶格...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 四川成都
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[1]接文静;朱俊;魏贤华;张鹰;罗文博;艾万勇;李言荣;.PLD方法制备CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜结构研究[J]功能材料.2007,(03)
[2]魏贤华;黄文;接文静;朱俊;.BaTiO_3铁电薄膜在硅基片上的取向生长[J]硅酸盐学报.2007,(05)
[3]魏贤华;熊杰;接文静;.双轴织构氧化铈薄膜的反射高能电子衍射分析[J]硅酸盐学报.2008,(12)
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