刘东坡
【姓名】 刘东坡
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;化学;建筑科学与工程;
【研究方向】
【发表文献关键词】 WO_3,电沉积,可见光,Cu,光电化学防腐蚀,电化学保护,短路光电流,光电化学电池,饱和甘汞电极,薄膜电极,烧结温度,沉积时间,沉积电位,光电响应,阳极室,制备,阴极保护,光电性能,对电极,半导体,
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 浙江杭州
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[1]张鉴清;冷文华;程小芳;刘东坡;.金属的光电化学方法防腐蚀原理及研究进展[J]中国腐蚀与防护学报.2006,(03)
[2]冷文华;刘东坡;程小芳;朱文彩;张鉴清;曹楚南;.电沉积制备WO_3电极及其对Cu可见光光电化学保护[J]金属学报.2007,(07)
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