刘强
【姓名】 刘强
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 预曝光蚀刻法,线性面形,连续深浮雕微透镜列阵,线性深度,阵列波导光栅,性能分析,制造,应用,曝光阈值,光刻,浮雕深度,微透镜,光子晶体,明胶材料,微浮雕结构,激光直写,蚀刻深度,SU-8光刻胶,三维光...
【工作单位】 中国科学院光电技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院光电技术研究所;
【所在地域】 四川成都
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[1]张晓玉;高洪涛;周崇喜;刘强;邢廷文;姚汉民;.SU-8光刻胶制作三维光子晶体[J]光电工程.2007,(08)
[2]董小春,杜春雷,潘丽,王永茹,刘强.微透镜列阵浮雕深度控制的新方法[J]光电工程.2003,(04)
[3]张磊,张晓玉,张福甲,姚汉民,杜春雷,刘强,潘莉.硅基光子晶体板的光刻和反应离子刻蚀[J]光电工程.2004,(02)
[4]董小春,杜春雷,陈波,潘丽,王永茹,刘强.一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法[J]光子学报.2001,(08)
[5]郑国兴,杜春雷,邱传凯,刘强.阵列波导光栅原理、制作工艺及其性能分析[J]飞通光电子技术.2002,(01)
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