许怀
【姓名】 许怀
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 二氧化铈,研磨液,直接浅沟道隔离,化学机械平坦化,研磨速度,半导体工艺,选择比,化学添加剂,浅沟槽隔离,集成电路,粒子,自动停止,特征尺寸,化学品,应用,硅片,硅石,研磨特性,研磨机理,制造商,
【工作单位】 上海交通大学
【曾工作单位】 上海交通大学;
【所在地域】 上海
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[1]许怀;程秀兰;.二氧化铈研磨液在化学机械平坦化中的应用[J]半导体技术.2007,(08)
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