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冯有才
【姓名】
冯有才
【职称】
【研究领域】
自动化技术;无线电电子学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
WO3薄膜,氨敏传感器,直流反应磁控溅射,响应时间,气体传感器,灵敏度,磁控溅射法,WO3,氢敏传感器,气敏传感器,薄膜,三氧化二铝,灵敏度比,工作温度,热处理温度,体积分数,晶体结构,薄膜厚度,退火...
【工作单位】
天津大学
【曾工作单位】
天津大学;
【所在地域】
天津
学术成果产出统计表
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到8篇
[1]尹英哲;胡明;冯有才;陈鹏;.
直流反应磁控溅射WO_3薄膜气敏特性研究
[J]传感技术学报.2007,(04)
[2]尹英哲;胡明;冯有才;.
WO_3气敏薄膜的膜厚对气体响应时间的影响
[J]传感器与微系统.2007,(06)
[3]胡明;冯有才;尹英哲;陈鹏;.
磁控溅射法制备WO_3薄膜及其氢敏特性研究
[J]微纳电子技术.2007,(Z1)
[4]尹英哲;胡明;冯有才;陈鹏;.
三氧化钨纳米薄膜制备与气敏性能的研究
[J]传感技术学报.2007,(11)
[5]李昌青;胡明;尹英哲;马晋毅;冯有才;陈鹏;.
Pt-WO_3薄膜气敏传感器的气敏性能研究
[J]压电与声光.2008,(06)
[6]胡明;冯有才;尹英哲;陈鹏;.
直流反应磁控溅射法制备WO_3薄膜及其氢敏特性研究
[J]传感器与微系统.2008,(03)
[7]尹英哲;胡明;冯有才;陈鹏;刘志刚;.
双层结构TiO_2-WO_3气敏薄膜特性的研究
[J]压电与声光.2008,(05)
[8]李东海;胡明;尹英哲;冯有才;陈鹏;.
两步热处理法对WO_3薄膜结构及其气敏性能的影响
[J]功能材料.2008,(10)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库
共找到1篇
[1]冯有才.
磁控溅射制备三氧化钨气敏薄膜
[D].天津大学.2007
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中国重要会议全文数据库
共找到1篇
[1]胡明;冯有才;尹英哲;陈鹏;.
磁控溅射法制备WO_3薄膜及其氢敏特性研究
[A].第十届全国敏感元件与传感器学术会议论文集.2007-08-01
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研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
章壮键
复旦大学
傅亚翔
同济大学
赵维学
东北水利电力专科学校
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
陈鹏
天津大学
2
胡明
天津大学
3
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该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
徐甲强
郑州轻工业学院
1
刘艳丽
河南师范大学
1
牛新书
河南师范大学
1
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