杨义发
【姓名】 杨义发
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 β-FeSi2,飞秒激光器,脉冲激光沉积法(PLD),光致发光,薄膜,半导体膜,性能研究,拉曼散射谱,基片,功率密度,扫描电镜,单晶,热处理时间,晶面取向,表面形貌,拉曼谱仪,氩离子,激发,多光子电离...
【工作单位】 华中科技大学
【曾工作单位】 华中科技大学;
【所在地域】 武汉
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中国期刊全文数据库    共找到2篇
[1]杨义发;龙华;杨光;郑启光;李玉华;陆培祥;.氧压对飞秒激光沉积ZnO/Si(100)薄膜光学性能的影响[J]物理学报.2009,(04)
[2]周幼华;陆培祥;杨光;杨义发;郑启光;.飞秒激光沉积β-FeSi_2／Si半导体膜及光学性能研究[J]无机材料学报.2007,(03)
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中国博士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]杨义发.脉冲激光沉积ZnO薄膜及其性质研究[D].华中科技大学.2008
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