唐晓多
【姓名】 唐晓多
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 刻蚀速率,金属铝,等离子体,氮化钛,刻蚀工艺,离子轰击,湿法刻蚀,干法刻蚀,集成电路,光刻胶,表面去除,硅片,物理方法,氧化铝,制造过程,侧壁钝化,选择性,钝化层,工艺简介,图形,
【工作单位】 美国应用材料中国有限公司
【曾工作单位】 美国应用材料中国有限公司;
【所在地域】 上海浦东
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[1]唐晓多;.金属铝刻蚀工艺简介[J]集成电路应用.2007,(08)
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